silicon oxide การใช้

• ใช้ในการกัดด้วยซิลิคอนออกไซด์หรือไนไตรด์ในพลาสมา
  Used in plasma etching of silicon oxide or nitride layers.
• ความบริสุทธิ์สูง 99.999% ซิลิคอนออกไซด์เป้าหมาย
  High Purity 99.999% Silicon Oxide Target
• ต่อไป: มีความบริสุทธิ์สูง 99.999% เป้าหมายซิลิคอนออกไซด์สปัตเตอร์
  Next: high purity 99.999% Silicon oxide sputtering target
• 1) ซิลิคอนออกไซด์อยู่เหนือ 95%
  1) Silicon oxide is above 95%.
• ซิลิคอนออกไซด์อยู่เหนือ 95%
  Silicon oxide is above 95%.
• สูงกว่า 95% ซิลิคอนออกไซด์
  Above 95% Silicon Oxide
• สูงกว่า 95% ซิลิคอนออกไซด์
  above 95% Silicon oxide
• ซิลิคอนออกไซด์ซัดฟิล์ม
  Silicon Oxide Lapping Film